林本坚怀疑，BSEC光刻机研究院去年就研发成功浸没式光刻机。

林本坚还担心，即使ASML升级改造成功65nm制程浸没式双工作台系统，能否达到BSEC 65nm制程双工作台系统同样的性能？

1996年9月，琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发，研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统。

当时，ASML和其他光刻机公司（除了GCA）付给每台相当于售价1%的专利费，购买BSEC双工作台系统专利技术，自己生产双工作台系统，BSEC负责硬件和软件升级。

BSEC每代制程的双工作台系统由GCA或BSEC负责升级，免费交给光刻机厂升级改造，通过晶圆厂常年使用，多方不断纠正硬件和软件中出现的缺陷和BUG，不断完善。

“蔡总，我们要求ASML出厂的浸没式光刻机继续配套BSEC浸没式双工作台系统。”

ASML一直对外宣称在高端光刻机上配套BSEC双工作台系统，在中低端光刻机上配套ASML双工作台系统，虽然早也升级到90nm制程双工作台系统，但硬件和软件的故障率明显高于BSEC，导致大多数晶圆厂购买ASML光刻机时，明确要求配套BSEC双工作台系统，宁可多付钱。

“董事长，虽然ASML也会同意，但担心到时BSEC浸没式双工作台系统没有拿到国际发明专利证书。”

BSEC浸没式双工作台系统和浸没式光刻机同时申请了国际发明专利，公开承诺等拿到国际发明技术专利证书后，向全球同行有偿转让这两项核心专利技术。

BSEC靠有偿转让磁悬浮式双工作台系统这项核心专利技术赚得盆满钵满，还让竞争对手失去开发的动力。

“我们如今希望ASML的浸没式光刻机早日量产，也希望BSEC浸没式双工作台系统早日拿到国际发明专利证书。”

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